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鉬靶材

[ 時間:2018-01-02 13:57:52 ]
鉬靶材
產品名稱:

鉬靶材

所屬分類:鉬靶材

詳情介紹

鉬靶 密度10.2/立方厘米。熔點2610℃。沸點5560℃。

鉬靶材純度:99.9% 99.99%

規格:圓形靶,板靶,旋轉靶

鉬靶材廣泛用于導電玻璃、STN/TN/TFT-LCD、光學玻璃、離子鍍膜等行業,適用所有平面鍍膜及旋轉鍍膜系統。

純度:純鉬99.95%,高溫鉬≥99%(添加稀土元素)

密度:10.2g/cm3

熔點:2610

供貨狀態:成品態

規格:根據客戶要求定制

生產工藝流程:

鉬坯(原材料)-檢驗-熱軋--堿洗-冷軋-校平-機械加工-檢驗-包裝

包裝方式:木箱包裝

工期:定制15天內交貨(庫存隨時發貨)。

發貨方式:快遞或物流(可協商)

費:供應商承擔。

后期服務:保質期內如出現質量問題,供方承擔所有責任(正常使用范圍內)。

鉬材料適用環境:真空環境或惰性氣體保護環境,純鉬較高耐高溫1200度,鉬合金較高耐高溫1700度。

鉬材料的適用行業及用途:鉬材料主要用在真空高溫行業,電子行業,藍寶石熱場及航空航天制造行業等,鉬材料經過變形量達到60%以上的軋制加工后,鉬的密度基本上接近于理論密度,因此其具有高強度,內部組織均勻和優良的抗高溫蠕變性能,被廣泛應用于生產藍寶石晶體生長爐內的反射屏,蓋板真空爐內的反射屏,發熱帶,連接件,等離子鍍膜用的濺射靶材,耐高溫舟皿等制品。

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